BAO Mask Avenger 最新版 v2.7.1

   BAO Mask Avenger最新版是很容易操作且使用范圍很廣泛的AE高級遮罩腳本，BAO Mask Avenger電腦版可以直接在AE中控制和編輯Mask路徑和遮罩的頂點，同時在三維空間做路徑動畫。BAO Mask Avenger軟件可以控制Mask(遮罩)的頂點及切線，還可以為頂點添加3D模式(Z軸)，對頂點添加表達式控制。

軟件特色

      拉姆預覽保護。以前版本的最大問題是Ram預覽無效

      通過插件。 Mask Avenger 2.0新的烘焙系統(tǒng)避免了這一點。

      3D面具。 BAO Mask Avenger最新版現(xiàn)在可以在3D中控制蒙版，而無需使用空圖層和表達式。

      然后更快地計算掩模，并簡化表達式寫入。

      背景烘焙。當需要修改蒙版時，蒙版復仇者會立即對其進行轉(zhuǎn)換

      當前時間，并在后臺烘烤工作區(qū)域的其余部分。這意味著您可以繼續(xù)工作

      而面具復仇者正在忙著烘焙。這取代了?Dynamic?和?bake?模式。

      更好地塑造層兼容性。與“動態(tài)”模式相關(guān)的錯誤隨著新烘焙而消失系統(tǒng)。

      工作區(qū)和圖層的持續(xù)時間不再影響Mask Avenger的計算速度。當然，

      烘焙100,000個關(guān)鍵幀需要超過10個，但新的烘焙系統(tǒng)允許您繼續(xù)工作

      而它正在烘烤。

      不再需要Mask Renderer。 Mask Avenger現(xiàn)在使用AE自己的掩蔽功能，運行速度更快。

      面具預覽。 Mask avenger 2.0有一個預覽系統(tǒng)，可以動態(tài)地顯示它們之前的變化

      適用于面具。這可以避免在表達式，其他圖層或相機修改蒙版時出現(xiàn)延遲。

控制說明